हैदराबाद विद्यापीठाच्या संशोधन पथकाने अल्फा एल्युमिना प्लेटलेट-रीडसाठी पेटंट मंजूर केले

शोध उच्च लवचिक सामर्थ्य राखताना एल्युमिना भागांच्या फ्रॅक्चर टफनेस 80 टक्क्यांपर्यंत लक्षणीय वाढवते

प्रकाशित तारीख – 17 मे 2025, 08:21 दुपारी




हैदराबाद: प्रोफेसर विरुद्ध शेषू बाई यांच्या नेतृत्वात स्कूल ऑफ फिजिक्सच्या हैदराबाद संशोधन पथकास नॅनोमेट्रिक अल्फा एल्युमिना प्लेटलेट्ससह प्रबलित सिरेमिक कंपोझिट तयार करण्याच्या त्यांच्या नाविन्यपूर्ण पद्धतीसाठी पेटंट देण्यात आले आहे.

शोध उच्च लवचिक सामर्थ्य राखून एल्युमिना भागांच्या फ्रॅक्चर टफनेस 80 टक्क्यांपर्यंत लक्षणीय वाढवते.


पेटंट तंत्रज्ञानामध्ये एलएपीओ 4 सह लेपित अल्फा-एल्युमिना प्लेटलेट्ससह एल्युमिनाला मजबुती देणे, लोडिंग दरम्यान क्रॅक डिफ्लेक्शन आणि उर्जा अपव्ययला प्रोत्साहन देणे समाविष्ट आहे. शुद्ध एल्युमिना भागांच्या तुलनेत, विशेषत: फ्रॅक्चर टफनेसची महत्त्वपूर्ण मालमत्ता सुधारली, या परिणामी या प्रसिद्धीपत्रकात म्हटले आहे.

अल्फा-एल्युमिना हा एल्युमिनाचा सर्वात स्थिर प्रकार आहे, संमिश्र वापरात कमी होण्याशिवाय उच्च तापमानापर्यंत वापरला जाऊ शकतो आणि कंपोझिटची स्थिरता आणि सामर्थ्य दंत रोपण इटीसी म्हणून थर्मल इन्सुलेटर म्हणून एरोस्पेस आणि ऑटोमोबाईल घटकांमध्ये वापरण्यासाठी आदर्श बनवते.

पेटंटमध्ये लक्षणीय सुधारित फ्रॅक्चर टफनेससह कॉम्प्लेक्स-आकाराच्या एल्युमिना सिरेमिक भागांमध्ये महत्त्वपूर्ण तांत्रिक प्रगती दर्शविली जाते आणि विविध उद्योगांना फायदा घेण्याची क्षमता आहे.

Comments are closed.